日本 CKD 喜開(kāi)理作為流體控制領(lǐng)域，其 HVL12 系列延遲真空電磁閥專(zhuān)為高精密真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)，憑借精準(zhǔn)的延遲控制與優(yōu)異的密封性能，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、真空鍍膜、電子元件封裝等工業(yè)場(chǎng)景。以下從核心參數(shù)、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)、型號(hào)組成三方面進(jìn)行全面解析。
HVL12 系列采用直動(dòng)式結(jié)構(gòu)與特殊密封技術(shù)，在真空保持與延遲控制方面表現(xiàn)突出，關(guān)鍵參數(shù)如下表所示：
注：流體需保持干燥，否則可能顯著縮短產(chǎn)品耐久性；DC 型具有極性，需按紅正黑負(fù)接線。
采用特殊密封材質(zhì)與閥座結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，泄漏量控制在 1.3×10??Pa?m3/s 以下，可滿(mǎn)足高真空系統(tǒng)的嚴(yán)苛要求。在半導(dǎo)體晶圓制造等場(chǎng)景中，能有效防止外部雜質(zhì)侵入真空腔室，避免產(chǎn)品污染導(dǎo)致的良率下降。同時(shí)，斷電后可維持真空狀態(tài)，配合延遲功能實(shí)現(xiàn)腔室保護(hù)。
內(nèi)置斷電延遲模塊，可根據(jù)電壓類(lèi)型設(shè)定 8 秒（AC）或 10 秒（DC）的延遲時(shí)間，精準(zhǔn)控制真空腔室的大氣開(kāi)放時(shí)序。在真空鍍膜設(shè)備中，能確保真空泵與腔室之間的管路先泄壓，再開(kāi)放大氣，避免停電時(shí)油分倒灌污染腔室，降低設(shè)備維護(hù)成本。
采用薄型線圈與一體化閥體設(shè)計(jì)，重量最輕僅 0.2kg，且支持自由安裝方式，可靈活嵌入真空鍍膜機(jī)、電子束加工機(jī)等空間受限的設(shè)備內(nèi)部。搭配多種標(biāo)準(zhǔn)化真空接頭，能快速與現(xiàn)有管路對(duì)接，減少安裝工時(shí)。
覆蓋從高真空（1.3×10??Pa）到常壓（2.0×10?Pa）的全壓力范圍，適配空氣、氮?dú)獾榷喾N惰性氣體介質(zhì)。提供 DC24V、AC200V 等常見(jiàn)電壓選項(xiàng)，可直接匹配工業(yè)設(shè)備的電源系統(tǒng)，無(wú)需額外配置變壓器。
CKD HVL12 系列型號(hào)采用模塊化編碼規(guī)則，通過(guò)后綴組合明確產(chǎn)品規(guī)格，以典型型號(hào)HVL12-4S6-5-AC200V為例，各部分含義如下：
接口選擇：需根據(jù)管路尺寸匹配 Rc 螺紋或雙卡套接頭，例如半導(dǎo)體設(shè)備常用 NW10.16 真空夾緊接頭，可對(duì)應(yīng)選型代碼為 “7S10" 的型號(hào)。
電壓匹配：工業(yè)自動(dòng)化設(shè)備優(yōu)先選擇 DC24V 型號(hào)，傳統(tǒng)動(dòng)力系統(tǒng)可適配 AC100V/200V 規(guī)格，選型時(shí)需確認(rèn)設(shè)備電源波動(dòng)范圍是否在 ±10% 以?xún)?nèi)。
功能擴(kuò)展：部分特殊型號(hào)帶手動(dòng)應(yīng)急閥桿，在斷電且無(wú)需延遲功能時(shí)可手動(dòng)操作，對(duì)應(yīng)代碼為 “6"，適合對(duì)設(shè)備可用性要求的場(chǎng)景。
該產(chǎn)品目前已廣泛應(yīng)用于三大領(lǐng)域：一是電子制造，如 LCD 面板真空貼合設(shè)備的腔室壓力控制；二是精密儀器，在分子加速器的真空管路中實(shí)現(xiàn)安全泄壓；三是新材料加工，配合真空燒結(jié)爐完成陶瓷制品的無(wú)氧燒結(jié)過(guò)程。
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更新時(shí)間：2025-10-09
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